ਇਲੈਕਟਰੋਨ ਸ਼ਤੀਰ ਿਲਵਿੰਗ - ਤਕਨਾਲੋਜੀ ਫੀਚਰ

ਸਾਡੇ ਉੱਚ-ਤਕਨੀਕੀ ਵਿੱਚ ਉਮਰ ਦੇ ਹੋਰ ਆਮ ਅੜੀਅਲ, ਗਰਮੀ-ਰੋਧਕ, ਖੋਰ ਰੋਧਕ ਅਤੇ ਿਲਵਿੰਗ ਹੈ, ਜੋ ਕਿ ਵਿਸ਼ੇਸ਼ ਤਕਨੀਕ ਦੀ ਲੋੜ ਹੈ ਲਈ ਰੇਡੀਏਸ਼ਨ-ਸਮੱਗਰੀ ਬਣਨ. ਅਜਿਹੇ ਇਲੈਕਟ੍ਰਾਨ ਸ਼ਤੀਰ ਿਲਵਿੰਗ, ਜਿਸ ਵਿੱਚ ਸਰਗਰਮ ਕੰਮ ਦੇ ਜ਼ੋਨ ਦਾ ਤਾਪਮਾਨ ਰਵਾਇਤੀ ਢੰਗ ਵੱਧ, ਇੱਕ ਹਜ਼ਾਰ ਵਾਰ ਵੱਡੇ ਸੂਚਕ ਹੈ ਪਹੁੰਚਦੀ ਹੈ ਦੇ ਰੂਪ ਵਿੱਚ. ਿਲਵਿੰਗ ਦੀ ਇਸ ਕਿਸਮ ਦੀ 'ਚ Ultrahigh ਦਾ ਤਾਪਮਾਨ photons ਜ ਇਕਟ੍ਰੋਨ ਬਾਰੇ 165 000 ਕਿਲੋਮੀਟਰ / ਸਕਿੰਟ ਦੀ ਗਤੀ' ਤੇ ਇੱਕ ਖਲਾਅ ਕਮਰੇ ਵਿੱਚ ਵਧਣਾ ਕਾਰਨ ਹੁੰਦੀ ਹੈ. ਮੈਟਲ ਨੂੰ ਇੱਕ ਸ਼ਾਨਦਾਰ ਗਤੀ 'ਤੇ ਬੰਬਾਰੀ ਕੀਤੀ ਹੈ, ਜਦ ਦੀ ਗਤੀਆਤਮਿਕ ਊਰਜਾ ਮੁਢਲੇ ਕਣ ਗਰਮੀ ਹੈ, ਜੋ ਧਾਤ ਪਿਘਲ ਵਿਚ ਤਬਦੀਲ ਕੀਤਾ ਗਿਆ ਹੈ.

ਇਲੈਕਟਰੋਨ ਸ਼ਤੀਰ ਿਲਵਿੰਗ ਇੱਕ ਖਾਸ ਕਮਰੇ, ਜੋ ਕਿ ਪ੍ਰੀ-ਕੱਢਿਆ ਵਿਚ ਕੀਤਾ ਗਿਆ ਹੈ. ਵੈੱਕਯੁਮ ਬਣਾਇਆ ਹੈ, ਜੋ ਕਿ ਇਸ ਇਕਟ੍ਰੋਨ ਗੈਸ ਮਿਸ਼ਰਣ ਦੇ ionization ਕੇ ਆਪਣੀ ਤਾਕਤ ਲਾ ਨਹੀ ਕਰ ਰਹੇ ਹਨ ਅਤੇ ਵਿਦੇਸ਼ੀ ਮੈਟਲ ਸੰਮਿਲਨ ਬਿਨਾ ਸੰਪੂਰਣ ਅਤੇਅਿਰੀਕਨ ਨੂੰ ਪ੍ਰਾਪਤ ਕਰਨ ਲਈ. ਇਲੈਕਟਰੋਨ ਸ਼ਤੀਰ ਇੰਸਟਾਲੇਸ਼ਨ, ਇਹ ਇੱਕ ਖਲਾਅ ਇੱਕ ਖਾਸ ਚੁੰਬਕੀ ਸ਼ੀਸ਼ੇ ਦੇ ਨਾਲ ਲੈਸ ਕਮਰੇ ਕਿਹਾ ਗਿਆ ਹੈ, ਇਕਟ੍ਰੋਨ ਦੇ ਇੱਕ ਦੇ ਨਿਰਦੇਸ਼ ਵਹਾਅ, ਅਤੇ ਪ੍ਰਭਾਵਸ਼ਾਲੀ ਪ੍ਰਬੰਧਨ ਸਰੂਪ ਲਈ. ਵੀ welded ਹਿੱਸੇ ਦੀ ਸਪਲਾਈ ਲਈ ਇਸ ਨੂੰ ਪੋਰਟ ਚਾਰਜ ਮੌਜੂਦ ਹੈ.

ਇਲੈਕਟਰੋਨ ਸ਼ਤੀਰ ਿਲਵਿੰਗ ਘੱਟ ਵੋਲਟੇਜ ਬਦਲ ਮੌਜੂਦਾ ਬਣਾਇਆ ਗਿਆ ਹੈ. ਇਸ ਨੂੰ ਇੱਕ ਵਿਸ਼ੇਸ਼ ਧਿਆਨ ਤੱਤ (ਸ਼ੀਸ਼ੇ) ਹੈ, ਜਿੱਥੇ ਐਨੋਡ ਨੂੰ ਕੈਥੋਡ, ਅਤੇ ਇਸ ਲਈ, ਇਲੈਕਟ੍ਰਾਨ ਸ਼ਤੀਰ ਲੋੜੀਦੀ ਗੁਣ ਦੇ ਨਾਲ ਬਣਾਇਆ ਗਿਆ ਹੈ, ਵਗਦਾ ਹੈ. ਘੱਟ-ਪਾਵਰ ਇੰਸਟਾਲੇਸ਼ਨ ਵਿੱਚ ਟੰਗਸਟਨ ਜ tantalum ਦੇ ਕੈਥੋਡ ਹੀਲਿਕਸ ਦੇ ਤੌਰ ਤੇ ਵਰਤਿਆ ਗਿਆ ਹੈ. ਪ੍ਰਕਿਰਿਆ ਅਤੇ welded ਸਮੱਗਰੀ ਦੀ ਵਿਅਕਤੀਗਤ ਵਿਸ਼ੇਸ਼ਤਾ ਨੂੰ ਹੋਰ ਬਿਜਲੀ ਦੀ ਲੋੜ ਹੈ, ਨੂੰ ਹੀ ਵਰਤਿਆ ਹੈ ਜਦਕਿ cermet ਜ lanthanum hexaboride ਦੀ ਕੀਤੀ cathodes ਮੁਫ਼ਤ ਇਕਟ੍ਰੋਨ ਨਿਕਾਸੀ ਕਰਨ ਲਈ ਇੱਕ ਦਾ ਵਾਧਾ ਕਰਨ ਦੀ ਯੋਗਤਾ ਰੱਖਣ, ਜੇ.

ਇੰਸਟਾਲੇਸ਼ਨ ਦੇ ਸੰਸਥਾਗਤ ਫੀਚਰ 'ਤੇ ਨਿਰਭਰ ਕਰਦਾ ਹੈ, ਇਲੈਕਟ੍ਰਾਨ ਸ਼ਤੀਰ ਿਲਵਿੰਗ ਸਮੱਗਰੀ ਨੂੰ ਹਿਲਾਉਣ ਸਥਿਰ ਸ਼ਤੀਰ ਨੂੰ ਜ ਉਲਟ ਸ਼ਤੀਰ ਨੂੰ perpendicularly welded ਜਾ ਕਰਨ ਲਈ ਨਿਸ਼ਚਿਤ ਭਾਗ ਨੂੰ ਰਿਸ਼ਤੇਦਾਰ ਪ੍ਰੇਰਿਤ ਕਰ ਸਕਦਾ ਹੈ ਕੇ ਕੀਤੀ ਜਾ ਸਕਦੀ ਹੈ. ਨਾਲ ਹੀ, ਕੁਝ ਪੌਦੇ ਦੇ ਡਿਜ਼ਾਇਨ ਨੂੰ ਇੱਕ ਵਿਸ਼ੇਸ਼ deflectors ਹੈ, ਜੋ ਕਰਦ ਹਰਿਆਣੇ ਨੂੰ ਪ੍ਰਾਪਤ ਕਰਨ ਲਈ ਹੋਰ ਮੌਕੇ ਦਿੰਦਾ ਹੈ ਦਿੰਦਾ ਹੈ.

ਇਹ ਿਲਵਿੰਗ ਦੀ ਕਿਸਮ ਵਿਆਪਕ ਉੱਚ ਦੀ ਿਲਵਿੰਗ ਵਿਚ ਵਰਤਿਆ ਗਿਆ ਹੈ ਮਿਸ਼ਰਤ ਸਟੀਲ ਅਤੇ ਧਾਤੂ-ਅਧਾਰਿਤ ਇੰਟੀਗ੍ਰੇਟਿਡ ਦੇ ਨਾਲ ਨਾਲ ਧਾਤ ਅਜਿਹੇ molybdenum, tantalum, niobium, ਟੰਗਸਟਨ, zirconium, beryllium ਹੈ. ਜਦ ਸਹੀ ਕਾਰਵਾਈ ਕਰਨ ਅਤੇ ਵੱਖ-ਵੱਖ mikrodetaley ਦੀ ਿਲਵਿੰਗ. ਇਹ ਅਜਿਹੇ ਰਾਕਟ ਸਾਇੰਸ, ਦੇ ਉਦਯੋਗ ਵਿੱਚ ਵਰਤਿਆ ਗਿਆ ਹੈ ਪ੍ਰਮਾਣੂ ਸ਼ਕਤੀ, ਸ਼ੁੱਧਤਾ ਯੰਤਰ, microelectronics ਅਤੇ ਕਈ ਹੋਰ.

ਇਲੈਕਟ੍ਰੋਨ-ਸ਼ਤੀਰ ਤਕਨਾਲੋਜੀ ਨੂੰ ਇਸ ਦੇ ਨਾਲ ਫੈਲੀ ਹੈ, ਅਤੇ ਹੈ ਲੇਜ਼ਰ ਿਲਵਿੰਗ. ਆਪਟੀਕਲ ਲੇਜ਼ਰ ਔਸਿਲੇਟਰ ਹੈ, ਜੋ ਠੋਸ ਰੇਡੀਏਸ਼ਨ ਦਾ ਇੱਕ ਅਤਿ ਸਰੋਤ ਹੈ - ਿਲਵਿੰਗ ਦੇ ਇਸ ਕਿਸਮ ਦੇ ਲਈ ਦੇ ਸਾਮਾਨ ਦੇ. ਲੇਜ਼ਰ ਿਲਵਿੰਗ ਕੈਥੋਡ-ਰੇ ਦਾ ਢੰਗ ਦੇ ਉਲਟ ਦੇ ਅਸੂਲ ਹੈ ਕਿ ਇਹ ਇਸ ਲਈ ਵੈਕਿਊਮ ਕਮਰੇ ਦੀ ਲੋੜ ਨਹੀ ਹੈ ਹੈ. ਕਾਰਬਨ ਡਾਈਆਕਸਾਈਡ, argon ਅਤੇ ਹੀਲੀਅਮ - ਲੇਜ਼ਰ ਤਕਨੀਕ ਨਾਲ ਵੈਲਡਿੰਗ ਦੀ ਪ੍ਰਕਿਰਿਆ ਨੂੰ ਹਵਾ ਵਿੱਚ ਜ ਖਾਸ ਸੁਰੱਖਿਆ ਗੈਸ ਨਾਲ ਹੀ ਸਥਿਤ ਦੇ ਹਾਲਾਤ ਅਧੀਨ ਇੱਕ ਕਮਰੇ ਵਿੱਚ ਕੀਤਾ.